第167章 光刻机技术的进展（1 / 2）

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随着戴儿公司那笔五万套固态硬盘订单的到来，天宇科技上下一片忙碌景象。林宇深知，要满足如此大规模的订单需求，提高生产效率是关键，而光刻机生产线的数量严重制约着芯片的生产速度。目前公司仅有三套光刻机生产线，这远远不足以应对即将到来的巨大生产压力。

林宇决定前往姜老他们的实验室。姜老带领的团队一直在进行着光刻机技术的研发工作，之前林宇已经将100纳米光刻机技术以及EUV光源技术交给了他们，他迫切地想要知道现在的研发进程。

林宇走进实验室，一股浓厚的科研氛围扑面而来。各种精密仪器有序地摆放着，技术人员们专注地在各自岗位上忙碌着。姜老正在一台复杂的设备前，仔细地观察着数据。

“姜老，您好。”林宇恭敬地打招呼。

姜老抬起头，看到是林宇，脸上露出了和蔼的笑容：“小林啊，你今天怎么有空过来了？”

林宇说道：“姜老，是这样的。公司刚刚接到了一个大订单，需要大量的芯片。但是我们现有的光刻机生产线数量有限，所以我来看看上次给您的100纳米光刻机技术研发得怎么样了。”

姜老点了点头，带着林宇来到一个展示台前，台上摆放着一些光刻机的关键部件模型。

“小林啊，自从你给了我们100纳米光刻机技术和EUV光源技术后，我们的研发进展还是比较顺利的。你看，这是我们对光刻机的镜头部分的改进成果。”姜老拿起一个镜头模型，递给林宇。

林宇仔细地看着镜头模型，发现它的工艺非常精细。姜老解释道：“这个镜头的分辨率已经能够达到100纳米级别了，我们采用了新的光学材料和制造工艺，大大提高了镜头对光线的聚焦能力，从而提高了成像的分辨率。”

林宇心中一喜：“姜老，这真是个了不起的成果啊。那其他部分呢？”

姜老又指着旁边的一个设备模型说：“这是我们对光刻机的工作台部分的改进。我们通过优化传动系统和定位系统，使工作台的移动精度能够达到亚微米级别。这样在芯片制造过程中，就能更精准地进行光刻操作。”

林宇对这些成果非常满意：“姜老，您和您的团队真的很厉害。那目前整个100纳米光刻机的研发，还面临哪些问题呢？”

姜老的表情变得严肃起来：“小林啊，虽然我们取得了一些成果，但仍然面临不少挑战。首先是EUV光源的稳定性问题，虽然你给了我们EUV光源技术，但要让它在长时间的光刻过程中保持稳定的输出功率还是比较困难的。这会影响到光刻的精度和效率。”

林宇皱了皱眉头：“姜老，那有什么解决办法吗？”

姜老说：“我们正在尝试通过改进电源供应系统和冷却系统来提高EUV光源的稳定性。另外，光刻机的整体控制系统也还不够完善。我们需要开发一套更智能、更精确的控制系统，能够实时监测和调整光刻机的各项参数，以确保光刻过程的准确性。”

林宇思考片刻后说：“姜老，公司目前急需增加光刻机的产量。您看，如果在现有的基础上，我们能不能先组装出一些简易的光刻机来满足生产需求呢？虽然可能达不到100纳米的完美精度，但只要能提高一些生产效率也好。”

姜老沉思了一会儿说：“小林，理论上是可以的。我们可以利用现有的一些部件，组装出一些精度稍低的光刻机。但是这样做也有风险，可能会生产出一些次品芯片，这对公司的声誉可能会有影响。”

林宇权衡了一下利弊：“姜老，我知道有风险。但是目前订单

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