第35章 人选2（1 / 2）

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在龙华大学的校园里，赵强和张华，张丽，以及一群满怀热情的学生们，正紧张地准备着星图公司举办的光刻机研发计划的选拔面试。

星图公司，作为国内领先的科技企业，其光刻机计划吸引了众多有志于科技研发的青年才俊。

面试室内，气氛紧张而有序，星图公司的面试官们正认真地评估着每一位申请者的专业能力和潜力。赵强和张华，王丽凭借着扎实的学术背景和对光刻技术的深刻理解，赢得了面试官的青睐，他们对光刻机的未来充满了无限憧憬。

面试官李博士清了清嗓子，开始发问：“首先，我想了解一下你们对光刻技术的基本原理的理解。请解释一下，光刻技术在半导体制造中的作用是什么？”

赵强首先回答：“光刻技术，简单来说，是通过光刻胶在半导体晶片上形成图案的过程，它是集成电路制造中的关键步骤。通过精确控制光线的照射，可以将设计好的电路图案‘印’在晶片上，实现电路的微缩化和集成化。”

张华接着补充：“而且，随着技术的发展，光刻技术的精度和效率不断提高，这对于推动集成电路的性能提升和成本降低至关重要。”

面试官李博士满意地点点头，继续提问：“很好，你们对光刻技术的理解很到位。那么，接下来的问题稍微有些难度。请你们谈谈，目前光刻技术面临的最大挑战是什么？以及你们认为未来的发展方向是什么？”

王丽沉思片刻，回答道：“我认为，当前光刻技术面临的最大挑战之一是光刻分辨率的提升。随着集成电路的集成度越来越高，如何实现更精细的光刻图案，以满足更小的电路设计规则，是一个亟待解决的问题。此外，光刻过程中的曝光精度和重复性也是关键挑战。”

张华接过话头：“对于未来的发展方向，我认为极紫外光刻（EUV）技术是目前最被看好的解决方案之一。EUV技术使用13.5纳米波长的光，可以实现更精细的图案化，这将推动光刻技术迈入新的阶段。同时，纳米压印光刻等新兴技术也是未来可能的方向。”

赵强补充道：“除了技术上的创新，我认为，提高光刻机的生产效率和降低成本也是未来研究的重点。只有这样，光刻技术才能更好地服务于半导体产业的快速发展。”

面试官李博士听完他们的回答，脸上露出了赞赏的笑容。“你们的回答非常全面和深入，展现了扎实的专业知识和对行业未来的深刻洞察。星图公司非常需要像你们这样有激情、有梦想、有创新精神的人才。”

面试结束，三位学生走出面试室，心中充满了激动和期待。他们知道，无论结果如何，这次面试都将成为他们职业生涯中宝贵的财富，激励着他们在光科技的道路上不断前行，追逐梦想。

然而，就在选拔工作如火如荼进行之时，一位不速之客的到来打破了平静。某位高层领导突然造访星图公司，意图利用自己的影响力，为自己的亲信开后门，要求星图在选拔过程中给予特殊照顾。

星图公司的高层面对这一情况，陷入了两难。一方面，他们深知公平公正对于公司声誉的重要性，不能因为外界的压力而破坏选拔的公平性；另一方面，他们也不愿因此与高层领导结下梁子，给自己带来不必要的麻烦。

在一番深思熟虑后，星图公司cEo李民决定采取一种既维护了公平，又避免了直接冲突的策略。他邀请那位高层领导进行了一次私人会面。

“尊敬的领导，我们非常理解您对人才选拔的关心，但在星图公司，我们始终坚守公平公正的原则，这是我们企业文化和核心竞争力的基石。”李民语气诚

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