第181章 光刻机，制硅，芯片（1 / 3）

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李卫东睁开眼睛，目光中闪烁着坚定的光芒。

暗暗发誓，要用自己的能力来改变这一切，要让炎国重新站在光刻机技术的最前沿。

系统的声音在他脑海中响起：

【叮！兑换成功，您已获得第一代和第二代光刻机技术。】

李卫东深吸一口气，开始仔细回顾刚刚获得的知识。

第一代光刻机，采用的是接触式曝光技术。

它通过将掩模版直接与涂有光刻胶的硅片接触，然后用紫外线照射，将图形转移到硅片上。

这种方法虽然简单直接，但由于掩模版与硅片的直接接触，容易造成损坏，且分辨率有限。

第二代光刻机则采用了近贴合式曝光技术。

它在掩模版与硅片之间保持一个很小的间隙，通过压缩空气或惰性气体填充这个间隙，既避免了直接接触带来的损坏，又提高了分辨率。

这种技术可以制造线宽达到2微米左右的集成电路，大大提升了芯片的集成度。

李卫东睁开眼睛，深邃的目光中闪烁着兴奋的光芒。

他知道，凭借这些技术，他完全可以带领团队制造出炎国自己的光刻机。

第二天一大早，李卫东就召集了研发团队的核心成员。

会议室里，每个人的脸上都写满了好奇和期待。

\"同志们，\"李卫东站在前方，目光炯炯有神地扫视着每一个人，\"我们即将开始一项关乎国家未来的重大项目——自主研发光刻机！\"

话音刚落，会议室里顿时一片哗然。

大家都知道光刻机的重要性，也清楚目前国内在这方面的短板。

\"李工，这...这是真的吗？\"一位年长的工程师颤抖着声音问道，眼中闪烁着激动的泪光。

李卫东郑重地点点头：\"是的，张工。我们不能再坐以待毙了。现在，我们有了突破性的技术，是时候追赶上去，甚至超越他们了！\"

接下来，李卫东开始详细讲解光刻机的各个部件和制造流程。

从光源系统到光学系统，从对准系统到步进系统，每一个环节他都讲解得清晰明了。

团队成员们听得如痴如醉，纷纷拿出笔记本记录着这些珍贵的信息。

\"记住，\"李卫东特别强调道，\"最关键的是光学系统。这是光刻机的'眼睛'，直接决定了我们能够制造多精密的芯片。\"

说到这里，李卫东的目光变得格外认真：\"这个部分，我会亲自负责。\"

会议结束后，整个研发中心立刻沸腾了起来。

每个人都带着使命感投入到了这项伟大的工程中。

机械工程师们开始设计机架结构，光学专家们埋头计算光路，电子工程师们则忙着设计控制系统。

李卫东则把自己关在了实验室里。

他知道，光学系统是整个光刻机的灵魂，容不得半点马虎。他一遍又一遍地推敲每一个参数，反复验证每一个设计。

日复一日，李卫东几乎以实验室为家。

他的眼睛因长时间盯着显微镜而布满血丝，双手因频繁调试精密仪器而起了茧子。但每当他看到那些逐渐成型的光学元件时，疲惟就一扫而空，取而代之的是无比的欣喜和自豪。

与此同时，其他部件的制造也在紧锣密鼓地进行着。精密机床日夜不停地运转

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