第574章 阶段性研发目标（2 / 2）

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整个丢给冉辉，然后自己一个人跑到河岛一去就大半年？

虽然要最终上头不同意给自己代管的话，那么现在说再多怕也无济于事。

不过此刻看大家兴致正高，杨明便干脆将将预设的阶段目标给抛了出来……

只不过他的预设目标，可不是刚刚众人所讨论的电汞灯辐射250紫外光，而是直接跳到了深紫外波段准分子激光！

对于光刻机来说，这可是一个阶段性的跨越。

毕竟电汞灯辐射250紫外光，光刻芯片的特征尺寸依旧在微米级，但如果采用深紫外波段准分子激光的话，那制成的芯片特征尺寸，则就进入了纳米级！

微米到纳米！

听到杨明所颁布的阶段性攻关目标，众人的脸上纷纷露出了可能被外行指挥内行的疑虑。

毕竟不说据他们所知，杨明对光刻相关技术虽然有极高的热诚，但在根本上就是个小白。

所以从开始讨论这个话题，他们便处处对杨明进行照顾，尽可能的采用一些但凡上过三天幼儿园就能听懂的语言进行描述，生怕杨明听不懂这点，就说现在！

连电汞灯辐射250紫外光的相关研发都没完成，杨明却要求用深紫外波段准分子激光，直接将特征尺寸从微米挑进纳米，那等于什么？

如果用小孩学步来形容，那就是连爬都没学会呢，就得先让人跑 ——那能跑的起来么？

科学这事，终究还得遵循基本规律。

要光凭听说过几个什么纳米啊微米的名词就脑袋一拍屁股就能成事，那就不是科学！

这，就是在场一众听到杨明提出的阶段目标时心里的想法。

对于众人可能在心底的鄙视，杨明并不在意。

毕竟自己是光刻方面的小白这点，那是事实。

但要说他提出的这要求是不遵循科学的基本规律，那可就大错特错了。

毕竟曾经，他可也算是被尖端芯片被卡脖子的受害者之一。

也是因此，在被卡脖子之时，他曾经深入的了解过整个光刻机的发展过程，所以对光刻机的发展史，他可真是了如指掌。

根据他的记忆，别看现在西方所曝光出来的研发进程，他们的光刻机依旧如张学东冯长宇所言，也还停留在微米阶段。

但事实上，现在西方的研究，其实已经将光刻的精度达到了纳米级！

而所采用的手段，就是准本子深紫外波段光源！

也就是说，就在当下，利用准分子深紫外激光制造纳米级芯片的技术，其实已经成熟。

在场一众之所以不理解，并非是他们的底蕴不够，只是因为不了解而已！

在这种情况下，他不让众人跳过电汞灯辐射紫外光这种落后技术，而是直接研究当下最先进的准分子激光，更待何时？

事实上，如果不是知道跳级这种事，可以玩从一年级跳到三年级，但绝对没法从一年级直接跳到大学这点，杨明怕是直接都得让众人直接从浸没式光刻技术开始研发，然后再直接转进到EUV技术路线的光刻机了……

也是因此，看着众人那你个外行出钱可以，但真的研发的话，你还是少外行指挥内行的表情，杨明微微一笑，然后侃侃而谈！