第二百一十一章 微光光刻机（2 / 3）

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呈现出墨绿色，反射着实验室的灯光。

这便是他花费一个月时间，从光刻机开始，到最终合成材料制造出来的芯片。

不具备任何功能，只是一个集成电路芯片，用以确认光刻机制造的具体精度。

将芯片放入显微镜后，叶风开启电子显微镜，不断放大显示倍数。

与电子显微镜连接的电脑屏幕上，画面呈现出来。

随着物品被放大，原本光滑平整的平面，逐渐变得凹凸。

当放大100倍的时候，物品聚焦的位置上，墨绿色变成了灰白色，呈现出一片沟壑交叠的模样。

继续放大。

镜头不断往前，电子显微镜实时呈现的照片中，一个交叠的沟壑被聚焦。

1000倍。

沟壑成了画面中的全部，却不是一个整体。

而是一片白黑相间，如同麦田的巨大广场。

继续放大。

这麦田变得清晰起来，没有了一眼可见的广场，而是一片片规整的起伏。

像是卫星从天上拍到的人类城市一样，一幢幢大楼整齐排列，横竖有致。

一万倍！

这个精度下，这些整齐排列的大楼，终于现出了原貌。

是一条条交错连接的晶体管。

达到0.1纳米线宽的晶体管，整齐排布在这片显微镜下仿佛看不到边际的平原上。

每一个晶体管从源极到漏极，中间都横着一道如同闸门的栅极。

这栅极就是决定电子通过与否的关键。

它的大小，也决定了芯片的纳米制程。

显微镜下1微米的空间中，排布集成着一千个完全相同的晶体管组合。

再放大，便是一万个，十万个。

一平方毫米的范围内，排列了超过四百亿个的晶体管。

指甲盖大小的芯片上，最终排列的晶体管数量，数量达到了惊人的千亿级别。

对比常规的5nm芯片，晶体管数量呈指数级增加。

而这，还不是最关键的。

完成电子扫描，叶风离开操作台，来到电脑屏幕前。

上面显示出此次扫描的所有数据。

半节距：0.05纳米，栅极长度：0.1纳米，最小金属间距：0.1纳米，逻辑晶体管密度……

一连串的扫描数据，才是它真正惊人的地方。

半节距，这是芯片内部晶体管互联线距离的一半，距离越小，占用空间越小，所能集成的晶体管数量自然也越多。

但由于电流扰动，电迁移等现象，这个距离往往是做不下来的。

不过这个问题对于叶风来说，并不存在。

活性微光直写反馈的不仅是光刻机的知识，附带的还有光刻芯片的材料合成。

这块其貌不扬的芯片，材料是经过十几道工序合成，名为【电极藻】的特殊材料。

它可以完全杜绝微观环境下的量子遂川效应，达成对电子的绝对控制。

换句话说，它不存在任何晶体管缩小以后，会带来的失效问题。

因而可以无限缩小晶体管互联线之间的距离。

不仅半节距如此，栅极长度也是同样。

这一枚芯片的所有数据，对比当今最顶级的5nm光刻机制造的芯片，同等缩小了五十倍。

如此情况下，不论晶体管集成数量，还是运算速度，都有了几何式的提升。

而在算力提升的情况下，因为栅极长度的缩小，损耗又降低了几十倍。

以往的手机电脑运行一会儿就发烫，便是电路在运行过程中的损耗带来的。

这种问题在眼前的芯片上，根本就不存在。

看过所有扫描数据，叶风心满意足。

一个月的努力，达成这种精度，一切便都值得了。

转身，叶风来到实验室中央的空地上。

这里没有任何多余的物品，只有一条六米长，直径一米多的黑色圆形筒状设备。

早在一个月前，叶风就通过增幅强化，得到了所有组建，完成了设备的拼接。

只是这最终的成品，实在没办法拿出手。

叶风打开系统，一件物品呈现在眼前。

这是一条长度超过二十米，半径达到两米的特殊……设备。

除了中段的银白色金属筒状结构外，

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